游離二氧化硅分析儀是火力發(fā)電廠、核發(fā)電廠、石油、化工等行業(yè)對其化學除鹽水、鍋爐給水、蒸汽、凝結水中硅酸根（SiO2）含量測定以及純水制備過程中水質(zhì)監(jiān)測的*儀表。游離二氧化硅分析儀還可用于各種鍋爐水質(zhì)監(jiān)控半導體產(chǎn)業(yè)質(zhì)量管理。自動連續(xù)監(jiān)測鍋爐用水中二氯化硅的濃度和半導體超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快，重現(xiàn)性高。既可以檢測低濃度二氧化硅，也可以檢測高濃度二氧化硅，可有效提高鍋爐的啟動時間，強化半導體和化工領域的質(zhì)量管理。
游離二氧化硅分析儀的化學原理：
在pH值為1.1-1.3的情況下，水中的可溶性硅與鉬酸銨反應生成黃色硅鉬絡合物，用1氨基-2萘酚-4磺酸（1-2-4酸）還原劑把硅鉬絡合物還原成硅鉬藍，此絡合物的數(shù)量與水中可溶性硅的濃度成正比關系。加入掩蔽劑酒石酸或草酸可以防止水樣中磷酸鹽和少量鐵離子的干擾。
游離二氧化硅分析儀的測量原理：
游離二氧化硅分析儀利用光電比色原理進行測量，根據(jù)朗伯-比爾定理：當一束單色平行光通過有色溶液時，光的一部分被溶液吸收，當溶液層厚度不變時，光能被吸收的程度（吸光度A）與溶液中有色物質(zhì)的濃度成正比。定理的數(shù)學表達式為：
Log（I/I0）=K·C·L=A。
式中：I0——入射光強度；
I—透過光強度；
C—有色物質(zhì)的濃度；
L—有色溶液的厚度；
K—常數(shù)（與溶液性質(zhì)和入射光波長有關）。
